有機EL評価の流れ（有機半導体開発室）

①ITO基板を用意します
②ビーカーに超純水を入れます　　18MΩ以上　　POC:10ppb以下
③ITO基板を洗浄治具に入れて、超純水の入ったビーカーにセットします
④超音波洗浄をします　（パーティクルの大きさに応じた周波数とします）　　周波数：23KHz～2MHz
⑤乾燥後、UVオゾン洗浄をします　　フェイスダウン式　　10mW/cm²　@256nm
⑥基板はデジケーターで保管しています
⑦洗浄後の基板を蒸着装置にセットします

⑧有機EL材料を蒸着装置にセットします
＜有機EL材料を入れるるつぼ＞このるつぼに有機EL材料を入れ加熱することで有機EL材料を蒸着しています。このるつぼの特徴は、出口にボトルネックがあることです。これにより、るつぼに材料が少ししか入っていない時も、いっぱいに入っている時もツーリングレートが変わらず、蒸着速度をコントロールできます。 ※ツーリングレートの材料残量・蒸着速度依存性が小さい。
⑨蒸着条件をセットします
⑩基板に蒸着させます　　10^-5Paオーダー
⑪蒸着が終わった基板にグローブボックス内で封止用のキャップを張りつけます　（有機ELは水分や酸素に弱いため封止しないとすぐに劣化します）　　酸素：水分　1ppm以下
⑫UVで封止を完成させます
⑬作製した有機ELの性能評価を行います（発光表面、電流・電圧・輝度[IVL]）
⑭最大１０㎝角の有機ELを作成することが可能です

成膜デモンストレーションやレンタルラボの対応も可能です。
・蒸着成膜（有機・無機）
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