[特集]基板の精密洗浄の効果について

構成　Glass/ITO, 50/HAT-CN,60/NPD,20/CBP+Irppy3[7%],30/BAlq,10/Alq,30/LiF,0.8/Al,150　　単位：nm

基板サイズ　□30㎜

発光面積　□10㎜×１箇所/１基板

未洗浄基板を用いて作製した有機EL素子(３基板)の電力特性バラつきと発光表面

・図２の発光表面をもつ素子は、たまたまガラス基板表面にゴミがほとんど無かったため大きな

　ﾀﾞｰｸ・ﾗｲﾄｽﾎﾟｯﾄがなく、その電力特性は比較的正常な値がでている。

・図１の発光表面をもつ素子は、保護ﾃｰﾌﾟの粘着物残渣やｶﾞﾗｽｸｽﾞなどのﾊﾟｰﾃｨｸﾙにより電極間ｼｮｰﾄを

　起こし、表面にﾀﾞｰｸ・ﾗｲﾄｽﾎﾟｯﾄが発生している。また、各ｽﾎﾟｯﾄで大きなｼｮｰﾄが発生しているため、

　電力特性が低下、明るく発光できなくなっている。

・図３の発光表面をもつ素子は、表面にゴミが少し残っており、ﾀﾞｰｸｽﾎﾟｯﾄは図１に比べて少ないが、

　ﾏｲｸﾛｼｮｰﾄは発生しているので図１の特性よりも全体的に低下している。

・簡易洗浄を施した基板を用いて同時に作製した３素子の電力特性と発光表面を示す。

・簡易洗浄とは、有機溶媒と超音波洗浄器を用いて基板表面に付着している有機系残渣（保護ﾃｰﾌﾟ

　粘着剤やﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄなど）を洗浄目標としたもの。ITOｴｯﾁﾝｸや基板切断などのﾌﾟﾛｾｽ中に付着した

　ｻﾌﾞﾏｲｸﾛｵｰﾀﾞｰのﾊﾟｰﾃｨｸﾙや金属・イオン系不純物の除去はほとんどできない。これら不純物は、

　IVL特性に影響。影響が見えなくても寿命に効いたりする。

・洗浄内容：基板をｱｾﾄﾝにﾃﾞｨｯﾌﾟして超音波洗浄３分⇒IPA蒸気洗浄５分⇒UVオゾン洗浄１５分

・大きなﾏｲｸﾛｼｮｰﾄはないが、１では小さなﾗｲﾄｽﾎﾟｯﾄが発生しており、特性が若干低下してバラつきが

　生じている。

・精密洗浄を施した基板を用いて同時に作製した３素子の電力特性と発光表面を示す。

・精密洗浄とは、半導体専用の有機・無機系不純物除去洗剤（２種類）と超純水（18MΩ、

　TOC＜20ppb）、超音波洗浄器（２台、３波長）を組み合わせた洗浄手法。基板表面に

　付着している有機系残渣（保護ﾃｰﾌﾟ粘着剤やﾌｫﾄﾚｼﾞｽﾄなど）に加え、ITOｴｯﾁﾝｸや基板切断などの

　ﾌﾟﾛｾｽ中に付着したｻﾌﾞﾏｲｸﾛｵｰﾀﾞｰのﾊﾟｰﾃｨｸﾙや金属・イオン系不純物を洗浄目標としている。

・洗浄内容：Step１(有機系ゴミ除去) ⇒Step２（無機系ゴミ除去） ⇒IPA蒸気洗浄５分

　⇒UVオゾン洗浄１５分

・発光表面にﾀﾞｰｸ・ﾗｲﾄｽﾎﾟｯﾄはなく、３素子の特性はよく一致している。簡易洗浄に比べると

　輝度半減寿命の評価結果においても良好なものが多い。